不同抛光方法对前牙邻面去釉后邻接触点及龈方牙釉质抛光效果的影响

作者：肖俐娟; 黄朝阳; 杨湘伶

来源：医学理论与实践, 2023, 36(15): 2542-2545.

DOI：10.19381/j.issn.1001-7585.2023.15.007

• 邻面去釉
• 粗糙度
• 抛光方法
• 激光共聚焦显微镜
• 龈外展隙

目的：通过离体牙实验，比较不同抛光方法对邻面去釉后的邻接触点及龈外展隙区域的牙釉质表面粗糙度的影响。方法：选择因正畸或牙周病原因拔除的前牙40颗，随机分为三个实验组和一个对照组，每组20个邻面。各组采用不同的抛光器械进行抛光，Ⅰ组：3M Sof-lex抛光盘；Ⅱ组：3M Sof-lex抛光盘，3M Sof-lex抛光条；Ⅲ组：3M Sof-lex抛光盘，而至Epitex抛光条。Ⅳ组：对照组(未去釉组)。用激光共聚焦显微镜测量各组的邻接触区和邻接触区下方的釉质表面粗糙度，并观察其表面形貌。采用SPSS25.0软件包对数据进行Kruskal-Wallis秩和检验。结果：(1)所有实验组邻接触点区域的釉质表面粗糙度都低于对照组，差异有统计学意义(P<0.05)。其中Ⅰ组的粗糙度最大，其次为Ⅱ组和Ⅲ组。(2)邻接触点下方区域的表面粗糙度Ⅰ组大于对照组，差异有统计学意义(P<0.05),Ⅱ组和Ⅲ组的表面粗糙度小于对照组，差异有统计学意义(P<0.05),且Ⅲ组的表面更光滑。结论：邻面去釉后，牙釉质表面的粗糙度增加，规范的抛光可以降低牙釉质表面粗糙度。邻接触点下方的龈外展隙区域单纯采用机用抛光盘进行抛光效果不佳。采用机用抛光盘结合手用抛光条对邻面去釉后的邻接触区和龈外展隙处的牙釉质进行抛光，可以获得理想的抛光效果。抛光条粒度过渡更好的情况下，抛光效果更好。

• 单位
  广西医科大学