某厂低温甲醇洗中杂质硫的影响及消除研究

作者：管晨羽; 李燕; 张述伟^*

来源：化学工程, 2020, 48(09): 14-19.

• 低温甲醇洗
• 过程模拟
• CH4S
• Aspen Plus
• NH3

某厂低温甲醇洗工艺的新原料气中除含有H2S,CO2等酸性气体外,还含有甲硫醇(CH4S)和NH3杂质。CH4S和NH3杂质在原低温甲醇洗工艺中难以被去除而在甲醇中累积,进而会导致工艺的产品无法达到要求。因此需要对原工艺流程进行改造,避免杂质在甲醇中的累积。首先利用Aspen Plus对原低温甲醇洗流程进行模拟。其后提出2种改造方案,并通过灵敏度分析确定了关键参数。方案1通过新增1个氮气汽提塔、1个气液分离罐和1台换热器成功地将CH4S和NH3杂质总摩尔分数降至4×10-6。方案2则利用了CH4S可与O2发生反应生成二甲基二硫醚的机理,通过新增1个反应器和1个精馏塔,将CH4S和NH3杂质降至6×10-6。2种方案都将有助于帮助实际工厂开发切实可行的含CH4S和NH3杂质原料气的净化处理工艺。

• 单位
  大连理工大学; 精细化工国家重点实验室