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摘要
过渡金属硫化物涂层的耐磨性能与其微观结构、力学性能有关，而其结构与溅射能量有关。高能脉冲磁控溅射(HiPIMS)具有离化率高和沉积能量高的特性，其沉积能量受控于靶电流。采用HiPIMS技术，通过改变Ti靶电流制备了WS2-Ti涂层，并利用扫描电镜、能谱仪、X射线衍射仪和纳米压痕仪表征涂层的微观组织结构和力学性能。分析结果表明，采用HiPIMS制备WS2-Ti涂层可以有效细化晶粒并抑制其柱状生长，所制备的涂层结构致密且以非晶态为主；随着靶电流的增加，可进一步细化WS2-Ti涂层晶粒，提高其致密度；涂层硬度随靶电流的增大呈先上升再下降的趋势，而其约化弹性模量先下降再上升；相应塑性因子H/Er和H3/Er2先变大后变小，在靶电流为50A时达到最高。
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