基于硅模具制作的纳米裂纹及应变传感器

作者：张之昊; 李浩然; 张思琦; 刘军山^*

来源：微纳电子技术, 2021, 58(04): 337-341.

DOI：10.13250/j.cnki.wndz.2021.04.009

• 应变传感器
• 纳米裂纹
• 纳米加工技术
• 硅各向异性腐蚀
• 聚二甲基硅氧烷(PDMS)二次倒模
• 应变灵敏系数(GF)

纳米裂纹制造技术作为一种非传统的纳米加工技术被应用于纳米线条、纳流控芯片和传感器等众多研究领域,然而纳米裂纹生成的随机性及其图案的不确定性限制了该项技术的发展。利用硅模具以及二次倒模工艺,在聚二甲基硅氧烷(PDMS)基底表面制作相互平行且分布均匀的金纳米裂纹。硅模具上带有利用硅各向异性腐蚀工艺加工出的V型沟槽结构,通过二次倒模工艺将该结构转移至PDMS基底表面,从而在弯曲时形成应力集中以控制裂纹的生成。进一步制作出具有较高灵敏度的应变传感器,其在应变0%～1.23%区间内满量程应变灵敏系数(GF)高达4 814,并可以多次重复使用。

• 单位
  大连理工大学