铜构件磁控溅射多层膜及其耐蚀性

作者：温佳源; 宋贵宏^*; 赵鑫; 贺春林

来源：电镀与涂饰, 2022, 41(01): 18-22.

DOI：10.19289/j.1004-227x.2022.01.005

• 铜
• 电沉积
• 磁控溅射
• 镍-铬合金
• 镍-铬-铝-硅合金
• 多层膜
• 微观结构
• 耐蚀性

先在铜基体上电镀Ni层,接着溅射沉积Ni–Cr和Ni–Cr–Al–Si合金薄膜。对比了Ni层、Ni/Ni–Cr复合膜层和Ni/Ni–Cr/Ni–Cr–Al–Si复合膜层的相结构、微观形貌和耐蚀性。结果表明,Ni电镀层表面光滑,Ni/Ni–Cr复合膜层和Ni/Ni–Cr/Ni–Cr–Al–Si复合膜层表面都由致密、连续的团簇颗粒组成。铜基体与Ni电镀层之间、Ni电镀层与溅射沉积薄膜之间都紧密结合。3种试样在海水中的腐蚀机制相同,Ni/Ni–Cr/Ni–Cr–Al–Si复合膜层的耐蚀性最佳。

• 单位
  沈阳大学; 沈阳工业大学