磁控溅射制备AZO/Al/GLASS双层膜的光电性能研究

作者：范丽琴

来源：陶瓷学报, 2017, 38(02): 244-247.

DOI：10.13957/j.cnki.tcxb.2017.02.023

• 掺铝氧化锌
• 磁控溅射
• 光电学性质

利用射频反应磁控溅射法在玻璃基片上制备Al薄膜,并在Al膜的表面镀上一层AZO薄膜,通过在Al膜表面镀上一层薄的AZO薄膜以提高其稳定性。并研究AZO/Al/glass双层膜的光电性能,以及Al薄膜层厚度对薄膜光电性能的影响。实验结果表明,当铝膜厚度为7 nm时,AZO/Al/glass双层膜品质因子最佳,为26.68×10-6Ω-1,此时方块电阻最低,为500Ω/sq,可见光区的平均透过率最高,为64.95%。

• 单位
  厦门工学院