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摘要
简单介绍了光刻胶的组成部分，综述了近年来国内外光刻胶成膜树脂合成、开发的研究进展，并根据不同曝光波长所需的不同光刻胶(包括紫外(UV)光刻胶、深紫外光刻胶、极紫外光刻胶等)进行了介绍。重点介绍了各光源下分子量和分子量分散指数对光致抗蚀剂的影响，并对国内外研究中通过不同聚合工艺制备的不同分子量光致抗蚀剂性能进行了评述，总结了近年来含有特定化学结构的光致抗蚀剂以及其制备工艺的研究进展。最后对国内外光刻胶的发展和应用进行了展望，指出进一步提高光刻胶的分辨率、改善其综合性能是今后的研究重点。
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单位常州工程职业技术学院
