掺钨氧化钒薄膜的制备及研究

作者：龙航宇; 余志明; 陈爽; 魏秋平; 刘学璋

来源：中国表面工程, 2009, 22(05): 31-35.

• 磁控溅射
• 掺钨
• VO2

采用复合靶磁控溅射法在SiO2玻璃、普通玻璃和Si(100)上沉积氧化钒薄膜,然后对其进行真空退火。分别利用X射线衍射、原子力显微镜、紫外可见光分光光度计和红外光谱仪分析样品的物相、表面形貌和光透过率。结果表明:500℃下退火1 h,SiO2玻璃衬底上沉积40 min的薄膜主要物相为VO2和V2O5,退火时间延长到2 h,薄膜主要物相为VO2,薄膜晶粒尺寸均匀,晶粒大小约为100 nm;Si(100)上沉积40 min的薄膜在500℃下退火2 h后,物相为低于+4价的钒氧化物;掺钨后薄膜可见光和红外光的透过率都有提高。

• 单位
  中南大学; 材料科学与工程学院