本发明公开了一种SU-8纳米流体系统的制作方法,其特征是利用全息曝光技术制作光刻-压印组合模板,并将光刻压印组合模板应用于SU-8纳米流体系统的加工中,其中利用光刻-压印组合模板包含的不同部分具有的不同功能,并结合键合技术实现纳米流体系统的制作。该方法操作简单,实现了样品池和纳米通道的同步成型,制造成本低,且不需要苛刻的设备。对制作的纳米流体系统进行流体填充测试的结果显示了系统没有分层和堵塞,通道的边界清晰可见,也看不出键合的界面,显示了很好的质量。
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