纯钛表面电火花沉积中间层对钛瓷结合强度的影响

作者：姜涛; 胡江; 周健; 唐长斌; 高勃

来源：口腔医学研究, 2011, (04): 277-280.

DOI：10.13701/j.cnki.kqyxyj.2011.04.007

• 电火花沉积
• 中间层
• 铸造纯钛
• 钛瓷
• 结合强度 Electro-spark deposition Middle layer Cast pure titanium Titanium porcelain Bond strength

目的:探讨在铸造纯钛表面电火花沉积技术制备中间层对钛瓷结合强度的影响。方法:将40个纯钛试件平均分为4组,分别用硅、锆及钴铬合金电极通过电火花沉积技术在其表面制备中间层,对照组不作沉积处理,喷砂后测各组试件的表面粗糙度。参照IS0 9693(1999)Amd.1 2005(E)标准在试件中份烧结Ti-22瓷粉,测钛瓷间的三点弯曲结合强度。对钛瓷结合界面进行扫描电镜观察及X射线能谱分析。用X射线衍射分析仪分析硅电极组中间层的结构。结果:喷砂后各组试件表面粗糙度差异无显著性,硅电极组钛瓷间的三点弯曲结合强度最高,为(33.38±3.67)MPa,较其他3组结合强度差异有显著性(P<0.05),其他...

• 单位
  第四军医大学; 西安建筑科技大学