等离子体辅助原子层沉积氧化铝薄膜的研究

作者：桑利军; 赵桥桥; 胡朝丽; 李兴存; 雷雯雯; 陈强

来源：高电压技术, 2012, (07): 1731-1735.

• 电子回旋共振等离子体
• 三甲基铝(TMA)
• 原子层沉积
• 表面形貌
• 氧化铝
• 沉积速率 electron cyclotron resonance plasma
• trimethylaluminum(TMA)
• atomic layer deposition
• surface topography
• Al2O3
• deposition rate

为在室温条件下进行氧化铝薄膜的原子层沉积,自行设计了一套微波回旋共振等离子体辅助原子层沉积装置,以三甲基铝作为铝源前躯体,氧气作为氧化剂,在室温下于氢氟酸溶液中处理过的单晶硅基片上进行了氧化铝薄膜的沉积。利用扫描电子显微镜、原子力显微镜、高分辨率透射电子显微镜、X-ray射线衍射、X-ray射线光电子能谱等分析手段测试了薄膜的表面形貌和成分,结果表明制备的氧化铝薄膜为非晶态结构,铝、氧元素含量配比接近2/3,同时薄膜表面非常光滑平整而且致密,表面粗糙度<0.4nm。通过高分辨率透射电子显微镜的截面图,可以估算出薄膜厚度约为80nm,界面非常清晰、平整,薄膜质量较高,沉积速率为0.27nm/周期...

• 单位
  北京印刷学院; 国家知识产权局