H2O2处理对于ZnO薄膜性能的影响

作者：李博; 高晓红; 张文通; 王天宇; 金宝昌

来源：电脑知识与技术, 2019, 15(08): 240-242.

DOI：10.14004/j.cnki.ckt.2019.0813

• 射频磁控溅射
• ZnO薄膜
• H2O2处理

本文研究了对ZnO薄膜的光致发光、晶体缺陷、晶粒尺寸和表面形貌的影响。采用PL测试表征材料的缺陷密度,用HR-XRD缺陷显著降低,结晶情况有所改善,晶粒尺寸增大。利用H2O2处理可以降低ZnO薄膜的缺陷态,提高了其在应用中的电学稳定性。

• 单位
  吉林建筑大学