投影光刻机中气相分子污染物（AMC）的控制及检测

作者：李佳

来源：电子技术, 2019, 48(01): 57-59.

• 集成电路制造
• 光刻机分子污染物
• 高纯气体分子
• 酸分子碱凝缩物
• 掺杂物

投影光刻机的性能直接决定了集成电路的特征线宽,随着特征尺寸(CD)的不断减小和套刻精度的不断提高,AMC将会越来越严重地影响圆片的加工质量和成品率,并会影响工作人员的身体健康。介绍AMC的分类、危害、控制方法及检测方法,为投影光刻机中AMC的有效控制提供参考。