目前集成电路对微电子测量技术提出了较高要求,其中光学关键尺寸作为微电子测量中的关键,其分辨率与测量极限问题表现得较为突出。本文基于相干光技术,详细研究相干光技术在微电子光学测量中的应用,并提出一套完整的系统方案,希望为进一步提高微电子测量精准度寻找出更有效的方法。