TFT-LCD制造用钼薄膜溅射及其靶材

作者：赵宝华; 范海波; 孙院军

来源：中国钼业, 2011, (01): 7-11.

DOI：10.13384/j.cnki.cmi.1006-2602.2011.01.001

• 薄膜晶体管液晶显示器
• 钼薄膜
• 钼靶材
• 磁控溅射 thin-film transistor liquid crystal display
• molybdenum film
• molybdenum sputtering target
• magnetic sputtering

薄膜晶体管作为关键器件直接影响薄膜晶体管液晶显示器的性能,钼作为电极和布线在薄膜晶体管的制造中具有重要应用价值。本文在简要介绍薄膜晶体管液晶显示器的结构和原理基础之上,重点讨论了钼在其生产过程中的应用、钼薄膜的磁控溅射制备方法和工艺参数要求以及钼靶材的研究现状。

• 单位
  金堆城钼业股份有限公司; 西北大学