基于分子动力学模拟的铜晶面石墨烯沉积生长机理

作者：白清顺^*; 窦昱昊; 何欣; 张爱民; 郭永博^*

来源：Acta Physica Sinica, 2020, 69(22): 348-356.

• 石墨烯
• 分子动力学
• 沉积生长
• 机理

化学气相沉积法是大面积、高质量石墨烯沉积制备实践中的重要方法.本文采用分子动力学仿真技术,模拟了利用化学气相沉积法在铜(111)晶面制备石墨烯的过程,研究揭示了石墨烯在铜(111)晶面上的微观生长机理.研究结果表明:石墨烯的沉积生长可描述为第一阶段的二元碳、三元碳和碳链形成阶段,以及第二阶段的碳环生成以及缺陷愈合阶段.研究发现沉积过程中的高温能够给碳原子提供足够的能量,使其越过两个阶段之间的能量障碍,实现石墨烯的沉积生长.探究了温度与碳沉积速率对石墨烯的影响,发现温度的影响主要体现在石墨烯的缺陷以及表面平整度两个方面.在1300 K的温度下生长的石墨烯缺陷较少,平整度最好.碳沉积速率会影响石墨烯生长过程中出现的缺陷,仿真获得了石墨烯最佳表面平整度时的碳沉积速率为5 ps–1.本文的研究结果对铜基底表面化学气相沉积法制备石墨烯的实际应用具有指导意义.

• 单位
  哈尔滨工业大学; 机电工程学院