PMDA/PDA线型聚酰亚胺的制备及可见光催化活性

作者：张琪; 朱学旺; 罗青枝; 殷蓉; 王德松^*

来源：河北科技大学学报, 2019, 40(06): 488-495.

• 半导体材料
• 聚酰亚胺
• 均苯四甲酸二酐
• 对苯二胺
• 罗丹明B
• 光催化降解

电位相对较低的价带(VB)是限制体型聚酰亚胺(PI)光催化氧化能力的因素,PMDA/PDA线型聚酰亚胺具有相对较高的价带电位(+2.45 eV),表现出较强的氧化性,不需要构建异质结就能表现出较强的氧化降解能力。为了制备一种具有较高可见光催化活性的聚酰亚胺,以均苯四甲酸二酐(PMDA)和对苯二胺(PDA)为原料,乙醇为共溶剂,采用二步法制备具有共轭结构的线型聚酰亚胺(PI),采用扫描电子显微镜(SEM)、傅里叶红外光谱仪(FTIR)、紫外可见漫反射仪(UV-vis DRS)、荧光光谱仪(PL)、X射线光电子能谱仪(XPS)等考察PI的化学组成、微观结构和光电化学性质,测定PI的禁带宽度、HOMO电位和最低未占据分子轨道(LUMO)电位。结果表明,线型PI的主要光催化活性中心是光生空穴,利用空穴的强氧化性降解罗丹明B(RhB)溶液,具有较高的光催化降解效果,降解效率是常用光催化剂g-C3N4的3倍。因此,PMDA/PDA线型聚酰亚胺具有较高的可见光催化活性及光催化稳定性。

• 单位
  河北科技大学