磁控溅射用高纯铬靶材的研究现状及发展趋势

作者：徐飞; 布国亮; 杨万朋; 成佳佳; 肖夫兰

来源：铸造技术, 2020, 41(12): 1197-1200.

DOI：10.16410/j.issn1000-8365.2020.12.023

• 磁控溅射
• 高纯铬靶材
• 研究现状
• 发展趋势

介绍了纯铬靶材的主要制备工艺流程及研究现状,介绍了采用热等静压方法制备的纯铬靶材圆柱体致密度高达99.86%,晶粒细小、溅射性能优异;阐述了高纯溅射铬靶材的特性,分析了高纯铬靶材存在的问题;探讨和展望了高纯铬溅射靶材的发展趋势。