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摘要
本发明属于纳米材料技术领域,具体涉及一种化学机械抛光用二氧化硅及其制备方法和应用。本发明提供的化学机械抛光用纳米球形二氧化硅的制备方法,以正硅酸乙酯(TEOS)为硅源,聚环氧乙烷-聚环氧丙烷-聚环氧乙烷三嵌段共聚物(P123)和自制的表面活性剂为结构导向剂,乙醇和水为共溶剂,各组分按特定的比例进行反应,可有效调控二氧化硅的梯度粒径至20～100nm,且粒径均一性好,有利于提高二氧化硅的分散性,应用于化学机械抛光液中,可以有效提高化学机械抛光的速率,减少材料抛光后的表面粗糙度,是作为半导体器件的化学抛光机械抛光液良好的磨料。
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