a-SiC_x:H/nc-Si:H多层薄膜的室温时间分辨光致可见发光

作者：王莉; 赵艳娥; 赵福利; 陈弟虎; 吴明娒

来源：发光学报, 2004, (06): 696-700.

• aSiCx∶H/Si∶H多层薄膜
• 等离子体增强化学气相沉积
• 热退火 a-SiC_x∶H/nc-Si multi-layers
• PECVD
• thermal annealing

在等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统中,通过控制进入反应室的气体种类逐层沉积非晶SiCx∶H(a SiCx∶H)和非晶Si∶H(a Si∶H)薄膜,然后经过高温热退火处理,成功制备了晶化纳米a SiCx∶H/nc Si∶H(多晶SiC和纳米Si)多层薄膜。利用截面透射电子显微镜技术分析了a SiCx∶H/nc Si∶H多层薄膜的结构特性。通过对晶化样品的时间分辨光致发光谱的研究,结果表明:随着退火温度的升高,发光峰位置开始出现一些红移现象;当退火温度为900℃时,样品的发光强度和发光衰减时间分别达到最大值和最小值;随着退火温度的继续升高,发光峰位置又开始出现蓝移现象。由此探讨纳米a S...

• 单位
  光电材料与技术国家重点实验室; 化学与化工学院; 中山大学