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摘要
以氮气作为等离子体放电气体,八水合氯氧化锆水溶液作为锆源,金属盐溶液经过氮气雾化后加到等离子体射流下游区域,在硅衬底上进行薄膜喷涂。采用X射线光电子能谱仪对薄膜样品进行成分检测,通过扫描电镜观察薄膜的微观形貌,利用EDS能谱仪对薄膜样品进行元素分析,并对喷涂薄膜的机理过程进行了探讨。结果表明,所制备的薄膜的主要成分为氧化锆,薄膜表面由小颗粒堆积而成,微粒分布比较均匀,颗粒大小在10～20 nm左右。在等离子体喷涂过程中,氮气发生电离后产生了大量的反应活性物质,如N、N2*、和N+等,这些活性物质促使了反应的进行。通过大气压低温等离子体喷涂技术成功的制备出了ZrO2纳米薄膜。
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