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摘要
针对经典贝叶斯抠图方法在函数建模和模型求解方面存在不足,提出基于纹理分布弱假设和正则化策略的抠图方法:首先针对函数建模问题,基于直方图和巴氏距离,定义和设计了对高斯分布方差进行修正的计算测度以及修正系数,提出一种考虑纹理复杂程度的自适应方差高斯分布模型;然后针对模型求解方法的不足,提出一种基于正则化策略的抠图求解模型,即通过增广拉格朗日乘子法,在基本模型中增加了数据约束项与惩罚项.通过定性和定量相结合的方式进行实验,结果表明该方法在复杂纹理区域上取得更好的效果,并且更加接近真实值.
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单位武汉大学; 软件工程国家重点实验室
