浅析影响磁控溅射镀膜结构和质量的主要因素

作者：仲凯音

来源：中国战略新兴产业, 2018, (04): 203.

DOI：10.19474/j.cnki.10-1156/f.003283

• 磁控溅射
• 镀膜
• 影响因素

本文通过对控制单一变量的方法进行磁控溅射镀膜实验数据的对比分析,探究了气压、靶磁场电流、溅射电流对于铜膜生成速率的影响,并结合超声波清洗技术,比较了不同温度下的不同成膜质量,研究了影响磁控溅射镀膜结构和质量的主要因素是气压、电流和基片温度等。