三氟化氯电子气体研究进展

作者：王连心; 于剑昆; 张景利

来源：化学推进剂与高分子材料, 2021, 19(03): 21-31.

DOI：10.16572/j.issn1672-2191.202109020

• 电子气体
• 三氟化氯
• 原位清洗

简要介绍了新型电子气体三氟化氯(ClF3)的发展历史及其物化性能,主要介绍了ClF3的制备方法及其在电子工业中的应用,指出ClF3作为一种新型含氟电子气体,可用于化学气相沉积反应室原位清洗,以替代传统上使用的全氟烃及在某些场合下替代NF3;ClF3的高化学活性提高了其对半导体材料的蚀刻速率,在第三代半导体材料(如Si)中也具有应用前景。

• 单位
  黎明化工研究设计院有限责任公司