电子束蒸发制备碳化硼微球涂层的工艺研究

作者：陶勇; 廖志君; 王自磊; 范强; 伍登学; 卢铁城

来源：四川大学学报(自然科学版), 2011, (02): 395-399.

• 电子束蒸发
• 涂层
• 沉积时间 electron beam evaporation
• coatings
• deposition time

自行设计一套筛网反弹盘三维沉积装置,用于电子束蒸发制备碳化硼微球涂层.采用电子束蒸发法并结合此装置在直径为1 mm的玻璃小球表面沉积了碳化硼涂层.研究了筛网振动频率、电子束制备工艺对沉积速率、涂层厚度以及涂层表面粗糙度的影响.采用X射线照相技术测试涂层的厚度;XPS测试涂层表面成分;AFM表征涂层的表面形貌和均方根粗糙度.结果表明:涂层主要成分为B_4C,表面较为光滑、均匀;当筛网振动频率为0.25 Hz,且电子束蒸发工艺参数定为:真空度P小于3×10~(-3) Pa,高压U等于6 kV,束流I在100 mA～120mA之间时,所制涂层表面形貌最佳.

• 单位
  四川大学