化学沉积钴基纳米晶合金涂层工艺

作者:吴玉程; 舒霞; 张勇; 郑玉春; 王文芳; 黄新民; 李广海; 张立德
来源:材料保护, 2004, 37(1): 38-40.
DOI:10.3969/j.issn.1001-1560.2004.01.014

摘要

化学沉积是制备纳米材料的一种良好方法,通过控制溶液组份和操作条件可以获得不同尺度的纳米晶.在化学沉积钴硼、钴磷合金纳米晶涂层制备工艺的基础上,制备了钴镍硼、钴镍磷纳米晶合金涂层,研究了三元纳米晶合金的沉积速率和显微组织结构.结果表明:当CCo2+/CNi2+=3:2时,pH值7.2,温度80℃,负载因子0.4 dm2/L,可以获得钴镍硼合金纳米晶.以纳米晶钴磷合金沉积液为基本配方,CCo2+/(CCo2+CNi2+)保持在0.1~0.5之间变化,可获得较好的纳米晶钴镍磷合金沉积层.

全文