磁头表面含氟硅烷自组装膜的制备和摩擦学性能

作者：胡晓莉; 雒建斌; 温诗铸

来源：润滑与密封, 2005, (06): 1-3+27.

• 磁头
• 1H
• 2H
• 2H-全氟葵烷基三乙氧基硅烷自组装膜
• 摩擦学性能 magnetic head
• FTE SAMs
• tribology properties

利用分子自组装技术,在磁头表面制备1H,1H,2H,2H-全氟葵烷基三乙氧基硅烷(FTE)自组装膜。应用时间飞行二次离子质谱仪(TOF-SIMS)、原子力显微镜(AFM)和接触角测量仪对FTE自组装膜进行表征。通过O lympus磁头磁盘界面可靠性测试系统对FTE自组装膜的摩擦学性能进行研究。实验结果表明磁头表面可制备膜厚1.2 nm、接触角值110.6°、表面粗糙度0.198 nm的FTE单层自组装膜。FTE单层自组装膜能够降低磁头起停过程的粘着力、增强磁头的摩擦性能,具有良好的耐磨性能。

• 单位
  摩擦学国家重点实验室