有机层上Ti/Al/Ti干法刻蚀中Al腐蚀问题研究

作者：杨国波; 姜龙^*; 鲁栋良; 宋亮; 蒋冬华; 赵吾阳

来源：电子世界, 2020, (11): 33-35.

DOI：10.19353/j.cnki.dzsj.2020.11.009

<正>随着显示技术的发展,Ti/Al/Ti材料需求的厚度越来越厚,走线越来越窄,目前LTPS显示技术中常规的设计是使用无机膜作为Ti/Al/Ti的衬底,而柔性OLED显示技术新设计中Ti/Al/Ti衬底开始逐渐使用有机膜(聚酰亚胺等),Ti/Al/Ti干法刻蚀工艺面对的挑战越来越大。本文将着重对感光有机物(聚酰亚胺等)基底上Ti/Al/Ti干法刻蚀中Al腐蚀问题进行分析研究。实验结果表明:单独增加CF4/O2防腐蚀后处理的时间会导致新的问题,会出现后面平坦层脱落的现象。通过光阻线宽的增加和光阻厚度的减薄,可改善Al腐蚀和平坦层脱落的问题。柔性AMOLED(主动阵列有机发光二极管)面板具有亮度高、色彩艳丽、轻薄、自发光、柔性可卷曲等优点,已被广泛应用

• 单位
  成都京东方光电科技有限公司