新型双层外延水平沟道恒流二极管结构的优化研究

作者：马飞^*; 贵向泉

来源：固体电子学研究与进展, 2021, 41(04): 258-273.

DOI：10.19623/j.cnki.rpsse.2021.04.004

• 恒流二极管
• 沟道结构
• 双层外延
• 结构设计
• 工艺优化

利用Silvaco-TCAD半导体器件仿真软件研究了恒流二极管水平沟道结构对器件恒流值(IH)、夹断电压(VP)、阻断电压(VR)及恒流值温度稳定性的影响。提出了一种新型双层外延水平沟道恒流二极管器件结构,降低了沟道两侧峰值电场强度。研制出的样品的电参数和温度稳定性得到了改善。

• 单位
  无锡工艺职业技术学院; 兰州理工大学