合成高硅CHA分子筛膜的模板剂替代及膜层缺陷控制策略

作者:王贺礼; 姜钦亮; 孙李媛
来源:应用化工, 2023, 52(06): 1860-1864.
DOI:10.16581/j.cnki.issn1671-3206.20230410.004

摘要

高硅CHA分子筛膜是分离CO2混合气体的一种理想材料,但其制备普遍采用价格高昂的有机模板剂TMAdaOH,在脱模过程中容易产生缺陷从而严重恶化膜的气体分离性能。采用廉价的模板剂替代TMAdaOH,可以有效降低膜的制备成本。通过改进脱模方式,以及采用膜层后处理修饰策略,可以有效减少膜层缺陷,提高膜的分离性能。继续开发廉价、环境友好的模板剂替代TMAdaOH合成高硅CHA分子筛膜,以及膜层缺陷后处理修饰技术是今后的重点研究方向。

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