本发明公开了一种基于溶液辅助蒸发制作自封闭微纳米流控系统的方法,其特征是在硅片光栅上滴加PMMA溶液,再将等离子体处理后的PDMS盖板压在硅片基板上,利用PDMS的多孔渗透性吸收PMMA溶液的溶剂,由于毛细力的存在,利用微纳沟槽截面的边界效应使PMMA在光栅槽内自发完成通道的顶部密封。本发明操作简单,成本低,能够实现在常温低压条件下完成大面积、均匀性好的纳米通道的制作。
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