2019高功率脉冲磁控溅射沉积薄膜技术与应用专题会议将于上海召开

作者：本刊编辑部

来源：中国表面工程, 2019, 32(02): 33.

<正>高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)作为一种利用高脉冲峰值功率和低脉冲占空比实现高离化率的溅射沉积薄膜新技术,可以控制膜层的微结构、降低膜层内应力、提高膜层致密度和膜基结合力、获得性能优异的薄膜,在国内外研究领域和工业界受到了广泛关注。