Si3N4/PI纳米纤维自增强低膨胀系数膜的制备及表征

作者：石红; 孙志腾; 刘学清^*

来源：化工新型材料, 2022, 50(03): 100-103.

DOI：10.19817/j.cnki.issn1006-3536.2022.03.020

• 聚酰亚胺
• 氮化硅
• 静电纺丝
• 自增强薄膜
• 热膨胀系数

先制备聚酰胺酸(PAA)溶液，再与纳米氮化硅(Si3N4)混合。利用静电纺丝技术，制备氮化硅/聚酰胺酸(Si3N4/PAA)复合纳米纤维膜。该膜经高温亚胺化后得到氮化硅/聚酰亚胺(Si3N4/PI)复合纳米纤维膜，通过在Si3N4/PI复合纤维膜上涂敷厚度均匀的PAA溶液，再次高温亚胺化，得到一种低热膨胀系数的自增强聚酰亚胺(PI)薄膜。利用扫描电镜(SEM)、红外吸收光谱分析仪(FT-IR)、热机械分析(TMA)和动态热机械分析(DMA)等测试仪器，研究了Si3N4/PI纳米纤维的形貌、PAA最佳亚胺化温度以及Si3N4/PI纳米纤维的薄膜热膨胀系数等。结果表明：制得的纳米纤维复合膜直径均匀，PAA在300℃下亚胺化较完全，Si3N4/PI纳米纤维膜自增强薄膜的热膨胀系数较纯PI薄膜的热膨胀系数下降了45.4%～56.5%,Si3N4/PI纳米纤维膜自增强薄膜的储能模量较纯PI增加了1.36～1.78倍。

• 单位
  江汉大学