基于文献计量的全球光刻机领域发展态势研究

作者：王杨; 阮妹; 杨梦雨; 王茜

来源：华东科技, 2022, (12): 60-62.

DOI：10.3969/j.issn.1006-8465.2022.12.018

• 光刻机
• 发展态势
• 研究现状
• 文献计量

光刻机又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是大规模半导体制造的核心设备，它的精度决定了芯片制程的精度，被誉为半导体工业皇冠上的明珠。全球高精度半导体用光刻机主要来自荷兰的ASML以及日本的Nikon和Canon这三家公司，而最顶级的EUV光刻机仅有ASML公司能够生产，最高能支持2nm芯片的制造，

• 单位
  华东师范大学