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摘要
靶材是磁控溅射沉积薄膜的原材料，其生产朝着尺寸大型化、高纯度和高利用率等方向发展，目前靶材的主要制备方法从工艺和经济效益上难以满足其生产要求,等离子喷涂制备靶材是解决上述问题的有效方法之一。通过分析靶材对镀膜性能的影响，总结了靶材制备的技术要求，如纯度、致密度、晶粒尺寸及一致性等。介绍了制备靶材常用的熔融铸造法、粉末冶金法和等离子喷涂法的优点和缺点。熔融铸造法可制备高纯度金属靶材，但是靶材晶粒易粗大；粉末冶金法可制备难熔金属及陶瓷靶材，但是靶材的致密度较低，制作工艺繁琐。这2种方法都难以制作大尺寸靶材。针对等离子喷涂技术在制造靶材方面易于实现大尺寸及管状靶材的制备，并且具有生产工序简单、成本低和可实现废靶修复再利用等特点，重点综述了等离子喷涂制备金属靶材、陶瓷靶材、合金靶材和修复残靶等方面的研究现状。分析认为，喷涂参数、喷涂环境、原料状态、掺杂元素和喷涂后处理等因素是影响靶材性能的关键。通过合理选择喷涂工艺参数，能够实现粉末持续保持熔融状态和充足动量，涂层应力充分释放，以及形成良好的微观组织等方面的协同效果，进一步提升喷涂靶材的纯度和致密度等方面的性能。最后针对等离子喷涂制备靶材的特点，对未来的研究方向进行了展望。
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