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摘要
针对当前国内原子层沉积(ALD)控制系统中存在硬件结构兼容性较差、数据交换及数据处理能力较弱等问题。通过分析ALD薄膜生长工艺特点，选定系统硬件配件，确定系统控制结构，设计出基于PC控制的ALD系统。系统采用Beckhoff工业PC作为主控制器，运用EtherCAT现场总线技术进行控制器与I/O模块之间的数据传输与交换，利用TwinCAT控制软件控制整个系统的运行。新系统在现场运行结果表明：该系统功能完善，实时性强，运行稳定，工艺结果能够达到半导体薄膜工艺标准。基于PC控制的ALD系统，对于实现薄膜生长的自动化具有重要意义，为PC控制应用于薄膜生长提供了指导。
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