本文采用ReaxFF力场开展气相SiO2分子冷却形成团簇过程的分子动力学模拟,研究讨论了体系在初始温度为2500K、2414K和2326K下,经过1000K下降后的成核过程,结果表明在一定温度和压力条件下分子自发形成团簇是可以发生的,团簇形成过程是由Si-O键断裂开始,经历分子吸附后不断长大,这个过程伴随着能量及饱和比的突变。