半导体制造中的湿法清洗技术

作者：贺敏辉; 许亦鹏; 刘宗芳; 尤益辉

来源：智能物联技术, 2023, 6(01): 1-34.

• 半导体制造
• 清洗
• 氧化
• 沾污

随着晶体管尺寸的不断微缩，晶圆制造工艺日益复杂，对半导体湿法清洗技术的要求也越来越高。本文以传统的半导体清洗技术为基础，介绍了先进半导体制造中的晶圆清洗技术，以及各种清洗工艺的清洗原理。从经济环保的角度，改进晶圆清洗工艺技术可以更好满足先进晶圆制造的需求。