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Atomic Layer Deposition of Silicon Nitride from Bis(tertiary-butyl-amino)silane and N-2 Plasma Studied by in Situ Gas Phase and Surface Infrared Spectroscopy
作者:Bosch Roger H E C; Cornelissen Lidewij E; Knoops Harm C M; Kessels Wilhelmus M M
来源:
Chemistry of Materials
, 2016, 28(16): 5864-5871.
DOI:10.1021/acs.chemmater.6b02319
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