摘要
片上集成电容是超导量子芯片上的核心器件,其数值一般在百飞法(fF)至皮法(pF)范围.采用常规微纳加工技术在蓝宝石基片上制备了铌-氧化硅-铝(Nb/SiO2/Al)平行板电容.利用刻蚀工艺制备了平行板电容器的下极板Nb,利用剥离工艺制备平行板电容器的上极板Al和介电层SiO2.室温下利用锁相放大原理和桥式电路原理测定电容大小,两种方法测定电容值基本一致,表明锁相放大原理测试pF级电容的可靠性.利用该电容与铝基约瑟夫森结组成谐振器,制备了中心频率位于4.35 GHz的约瑟夫森参量放大器.在稀释制冷机中10 mK温度下测定直流偏置谐振器的磁通-频率相位图,拟合数据获得的电容值与室温测定电容值接近,表明在mK、GHz条件下工作的片上集成电容可在室温、kHz条件下测定其数值大小.
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单位北京量子信息科学研究院