钴/玻碳离子注入修饰电极伏安法测定呋喃妥因的研究

作者：谭学才; 邱建丁; 李荫; 邹小勇; 蔡沛祥

来源：分析化学, 2004, (07): 930-934.

• Co/GC离子注入修饰电极
• 呋喃妥因
• 吸附溶出伏安法 Cobalt/glassy carbon ion implantation modified electrode
• nitrofurantoin
• adsorptive stripping voltammetry

呋喃妥因 (NFT)在 0 .1mol/LHAc NaAc (pH 4 .0 )溶液中于钴 /玻碳 (Co/GC)离子注入修饰电极上产生一灵敏的伏安还原峰 ,峰电位为 - 0 .2 6V(vs.Ag/AgCl) ,峰电流与NFT浓度在 6 .0× 10 -8～ 5 .0× 10 -6mol/L范围内呈线性关系 (r =0 .9987) ,检出限为 1.0× 10 -8mol/L。用线性扫描伏安法和循环伏安法研究了NFT的伏安行为、吸附特性和电极反应机理。测定了电子转移数 (n =4 )、转移系数 (α =0 .5 8)和参与反应的质子数 (X =4 )等电化学参数。结果表明该电极过程为一具有吸...

• 单位
  广西民族大学; 中山大学