反应溅射TiO/AlO和TiN/AlN薄膜的微结构与力学性能

作者：赵文济; 李一睿; 胡祖光; 许辉; 祝新发; 李**

来源：表面技术, 2005, (05): 19-21.

DOI：10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2005.05.006

• TiO薄膜
• AlO薄膜
• TiN薄膜
• AlN薄膜
• 反应溅射
• 微结构
• 力学性能 TiO film
• AlO film
• TiN film
• AlN film
• Reactive sputtering
• Microstructure
• Mechanical property

采用Ti-A l镶嵌复合靶在Ar、N2和O2混合气体中反应溅射制备了一系列TiO/A lO和TiN/A lN薄膜,并采用EDS、XRD、TEM、AFM、SEM和微力学探针研究了薄膜的化学成分、微结构和力学性能。结果表明,随氧分压的提高,TiO/A lO和TiN/A lN薄膜中的氧含量逐步增加,氮含量相应减少,但其(Ti A l):(O N)仍保持约为1:1的化学计量比。薄膜保持与(Ti,A l)N薄膜相同的NaC l结构,并形成强烈(200)织构的柱状晶。与此同时,TiO/A lO和TiN/A lN薄膜的硬度和弹性模量也仍保持在与TiN/A lN薄膜相当的35GPa和370~420GPa的高值...

• 单位
  上海工具厂有限公司; 上海交通大学