基体放置状态与脉冲偏压幅值对大颗粒形貌和分布的影响

作者：魏永强; 魏永辉; 蒋志强; 田修波

来源：真空科学与技术学报, 2014, 34(10): 1012-1018.

DOI：10.13922/j.cnki.cjovst.2014.10.02

• 电弧离子镀
• TiN
• 大颗粒
• 脉冲偏压幅值
• 放置状态

利用电弧离子镀方法制备了TiN薄膜,研究了脉冲偏压幅值和试样放置状态对Ti大颗粒形貌和分布规律的影响。采用扫描电子显微镜观察了薄膜的表面形貌,利用Image J科学图像软件对Ti大颗粒的数目和尺寸进行了分析。结果表明:在不施加脉冲偏压时,随着试样表面与靶表面放置方向从平行到垂直,大颗粒数目迅速由4964降低到3032,所占薄膜的面积比从12.1%减少到4.7%;而在相同的放置方向下,发现静止状态下的薄膜表面大颗粒数目较少,尺寸也较小,而转动状态下大颗粒形貌差别较大,尺寸和所占的面积比较大。随着脉冲偏压幅值的增加,在各个放置状态下大颗粒都出现了先减小后增加的趋势,当幅值在-400 V时,薄膜表面大颗粒所占的面积比都达到最小值。

• 单位
  郑州航空工业管理学院; 先进焊接与连接国家重点实验室; 哈尔滨工业大学; 机电工程学院