摘要

污水资源化过程中抗生素污染及其氯化产生消毒副产物(DBPs)的问题是影响再生水安全的重要因素.本研究考察了VUV/UV/NaClO工艺对磺胺甲噁唑(SMX)的去除效能及卤乙酸(HAAs)的生成情况,分析了光源、共存阴离子和溶解性有机质的影响.再生水中常见的阴离子(溴离子、硫酸根)、低浓度(≤3 mg/L,以TOC计)多糖和蛋白对SMX的降解无显著影响;但高浓度(30 mg/L)蛋白使SMX的降解率由99.9%降为 61.2%,腐殖酸浓度从0提高到30 mg/L,30 min后SMX均能完全降解,但是SMX降解速率下降了68%,体系的矿化去除率降低了44%.共存溴离子和腐植酸极大地促进了DBPs的生成,且随浓度的增加而增加.VUV/UV/NaClO与UV/NaClO相比,对SMX的降解效率无显著差别,但矿化去除率提升了44%,且使HAAs生成量降低了98%,总毒性降低了96.5%.由此可见,VUV/UV/NaClO工艺有望成为比UV/NaClO更为优越的消毒工艺,应用到实际再生水处理中.

  • 单位
    山东大学; 环境科学与工程学院; 山东省第一地质矿产勘查院

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