摘要
针对光吸收与物质厚度之间长期存在的相互制约关系,设计了金属/介电层/吸收层的三层膜纳米腔超吸收结构,并采用磁控溅射法制备Al/Al2O3/Pt纳米腔结构。在Al/Al2O3/Pt三层膜结构中,底层Al膜可以作为很好的反射层,中间Al2O3是一种光学无损介电层,可以为纳米腔结构提供额外的相位。由于强干涉效应,改变中间Al2O3层的厚度,可以很容易地调节顶层金属Pt薄膜的光吸收性质。当改变Al2O3层的厚度,从40 nm变化到200 nm时,Pt薄膜的光吸收性质可以从紫外光区连续地调节到整个可见光区,而且光吸收强度可以达到50%以上。
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单位太原师范学院; 材料学院