EUV光刻胶专利分析及技术热点综述

作者：冯刚^*

来源：现代化工, 2019, 39(07): 11-18.

DOI：10.16606/j.cnki.issn0253-4320.2019.07.003

• EUV光刻胶
• 专利分析
• 技术热点

分析了全球EUV光刻胶领域专利申请态势、主要申请人和技术分布,重点介绍了基体树脂和光产酸剂结构改进方面的技术热点,并展示了有价值的专利技术信息。

• 单位
  国家知识产权局