离子束流密度和基底温度对TiN纳米薄膜性能的影响

作者：梁爱民; 徐洮; 王立平; 林义民; 孙蓉

来源：材料科学与工程学报, 2005, (4): 534-536.

DOI：10.3969/j.issn.1673-2812.2005.04.016

• TiN薄膜
• 离子束辅助沉积
• 结合强度
• 纳米硬度
• 摩擦学性能

采用低能离子束辅助沉积技术在Si片上制备了TiN纳米薄膜.考察了离子束流密度和基底温度对薄膜性能的影响.研究表明:随着离子束流密度的增大,TiN薄膜的纳米硬度上升,膜基结合力变化不大,薄膜的耐磨性获得了很大改善;制膜时的基底温度升高,薄膜的硬度也会上升,但膜基结合力下降,摩擦系数增大,薄膜的耐磨性下降.

• 单位
  固体润滑国家重点实验室; 中国科学院兰州化学物理研究所