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摘要
在针对芯片的“卡脖子”技术中，极紫外(EUV)光刻是最重要的一环。EUV光刻技术已经被广泛应用于最先进工艺节点的集成电路芯片制造之中。它的研发交叉融合了光学、机械、电子、控制、软件、材料、数学、物理等多个学科的知识。EUV光刻的发展反映了世界范围内联合研发的演变过程，开放和合作是发展过程中的主旋律。回顾了EUV光刻的发展历史及所涉及的重大项目和机构，讨论了全球唯一的EUV光刻机制造商——ASML公司的灵活多变的国际化合作路线，分析了自1997年以来世界各代表性研发机构的研发趋势以及与EUV光刻发展的关系，详叙了各参与机构在世界范围内的合作对EUV光刻发展的影响。该研究为研发先进光刻机等类似高端装备提供了一些启示和参考。
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