退火气氛及扩散阻挡层对多层膜热稳定性的影响

作者：杨振良; 宋忠孝; 徐可为

来源：稀有金属材料与工程, 2004, (11): 1195-1198.

• 沉积Cu膜
• 热稳定性
• 扩散阻挡
• 退火气氛 deposited Cu film
• thermal stability
• diffusion barrier
• annealing atmosphere

沉积在 ZrN,TaN 阻挡层上的 Cu 膜分别在真空和氢气、氮气的混合气氛下退火。利用 SEM、XRD 和电阻率来表征多层膜的热稳定性。实验结果表明:对于沉积在同种阻挡层上的多层膜在混合气氛中退火的热稳定性较真空退火的要高。对真空退火处理,沉积在 ZrN 阻挡层上的多层膜的热稳定性比沉积在 TaN 阻挡层上的要高。研究结果表明:多层膜的热稳定性的评价不仅跟多层膜本身的因素有关,如阻挡层的种类,还和退火气氛有关。