温度对O3及O3/H2O2工艺去除痕量阿特拉津的影响

作者：刘永泽; 江进; 马军; 罗从伟; 皇甫小留; 郭忠凯

来源：中国给水排水, 2015, 31(05): 54-57.

DOI：10.19853/j.zgjsps.1000-4602.2015.05.012

• O3
• O3/H2O2工艺
• 低温
• 常温
• 阿特拉津

研究了O3及O3/H2O2工艺在低温和常温条件下对实际水体中痕量阿特拉津的去除规律。结果表明:低温(5℃)条件下,O3分解相当缓慢,单独O3氧化工艺对阿特拉津的去除能力有限,而O3/H2O2工艺优势明显;常温(25℃)条件下,O3分解较快,单独O3氧化工艺就能有效降解阿特拉津,O3/H2O2工艺优势较弱。理论分析认为,O3完全分解条件下产生的羟基自由基的CT值与O3投量相关,而与H2O2投量无关。因此,H2O2投量应使O3在氧化接触时间内恰好完全分解为最佳,可以用剩余臭氧浓度作为指示参数来控制H2O2的投加。

• 单位
  哈尔滨工业大学; 城市水资源与水环境国家重点实验室